在我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的背景下，復(fù)旦大學(xué)近期開發(fā)出的異質(zhì)CFET技術(shù)成為了焦點(diǎn)。這項(xiàng)技術(shù)無(wú)需依賴EUV光刻機(jī)，就能制造出高端芯片，為我國(guó)芯片制造技術(shù)帶來(lái)了突破性的進(jìn)展。我國(guó)芯片制造技術(shù)目前最先進(jìn)的已達(dá)到14nm，但要進(jìn)一步發(fā)展到7nm及以下技術(shù)，卻遭遇了瓶頸，因?yàn)槲覀內(nèi)狈ο冗M(jìn)的EUV光刻機(jī)。然而，復(fù)旦大學(xué)的這一新技術(shù)卻讓我們看到了繞過(guò)這一瓶頸的希望。這一技術(shù)不僅展示了我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的自主創(chuàng)新能力，也為我國(guó)芯片行業(yè)的未來(lái)發(fā)展指明了方向。在臺(tái)積電在美國(guó)建廠對(duì)我國(guó)芯片行業(yè)構(gòu)成挑戰(zhàn)的背景下，我們更需要堅(jiān)定自主創(chuàng)新，積極尋求合作，保護(hù)自身利益。

復(fù)旦大學(xué)的異質(zhì)CFET技術(shù)讓我們看到了中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的無(wú)限可能，期待我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)能夠持續(xù)創(chuàng)新，邁向更高峰！